很多人都提到了当前光刻机难点核心是外部技术封锁，这点个人并不能苟同。技术封锁的因素的确存在，但更为核心的其实还是我国整体材料学和制造业的落后，这才是真正的主因。
我国有光刻机生产企业但水平落后：
我国当然是有光刻机生产企业的，而且还很多，只是整体制造水平不行，相比先进的光刻机差距很大。目前国内水平最高的光刻机厂商是上海微电子，目前量产的光刻机是90nm。按照量产一代，试制一代，预研一代的进度，现阶段已经在完成了65nm光刻机的试验，正在研发攻关28nm光刻机。上海微电子虽然整体水平落后，但从成立至今18年来一直在持续努力追赶中。
光刻机难造的核心是材料学无法突破：
目前全球范围内其实没有任何一家企业有能力独立制造一台光刻机，荷兰ASML也不例外，想要造一台光刻机至少需要几万个配件，因此涉及到的厂商其实非常众多。
不管是ASML，还是日本的光刻机厂商尼康、佳能，以及我国的上海微电子本质都是光刻机系统制造商，他们都需要全球范围内各配件厂商给提供合格的配件才能生产出一台光刻机。
因此，困扰我们无法生产高端光刻机的其实还是这些配件厂商。我这里就拿光刻机的主要子系统也就是曝光光学系统和超精密工件台来大致聊聊。
1、曝光光学系统：涉及到光学领域的技术，这块我国其实一直很难突破。而荷兰ASML所使用的镜头是德国的蔡司，对于这家厂商我想玩摄影的应该都清楚他在业界的实力，全球顶尖的光学、光电企业。而日本的两家光刻机生产厂商大家也耳熟能详，也就是尼康和佳能，在光学领域都是一顶一的好手。有这样的光学技术在手，那么整个光学系统以及对应的镜头就能很好的得到解决。
2、再来说说超精密工件台：前面提到上海微电子已经完成65nm光刻机的试验，这里非常关键的一点就在于我国现在能自主生产满足65nm光刻机使用的双工件台（见下图），这家企业叫华卓精科，是全球第二家能自主研发生产双工件台的企业。如果说，没有这家企业的出现，掌握自主的技术，那我们65nm光刻机的进度或许会更慢一些，你采用外国的设备很难说不对你进行阻扰。
综合来说，光刻机自身的研发难度的确非常大，但是一台机器是有各种子系统组成的，如果说各个子系统的核心部件我们都能掌握，那么整个光刻机的研发难度就会大大下降，受到所谓的外在技术封锁的可能性就会越小。
Lscssh科技官观点：
因此，对于光刻机的难造，我们更应该明白背后这些真正的难点，当我们哪天的制造业，材料学等技术全面取得突破提升时，这光刻机也就相对不难造了。其实不光是光刻机，包括航空发动机等领域也是类似状况。
现在，就全球范围而言，只要我国能生产的设备和配件，国外企业基本上都会放开限制，只要我们无法做到自主研发生产的，或多或少都存在各种封锁，这就是我国当前的现状。
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