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国产光刻技术获巨大突破,六面光刻工艺成功问世

晶振

在电子元件上,估计很多人都会想到芯片,而现在对于我们国家的芯片产业来说,正处于高速发展的大号时机,无论是在自主创新上,还是在市场拓展上,都将让我们的半导体产业带来巨大变革。

相对于芯片产业的发展,我们在晶振产业上同样需要非常多的关注,毕竟,除了芯片之外,晶振产品在现代设备中,也有着非常多的应用。尤其是对于已经到来的5G时代,国产晶振产品对于保障光电等国产电子产品的领先有着重要作用。

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对于晶振行业来说,微型化、片式化是一大发展趋势,小型号、高精度、高稳定性的晶振产品,也是未来5G时代的高科技产品的重要配件。而要想实现晶振产品的微型化,MEMS光刻技术是至关重要工艺。

现在,作为国内晶振行业的专精特新“小巨人”企业,泰晶科技已经成功做到了使用六面光刻工艺,将超过2000颗的“2012”型号晶体谐振器,集成到了80×80mm的晶元上。

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这里需要给大家说清楚的是,MEMS光刻技术并不是大家所常说的EUV光刻机技术,MEMS是指微机电系统!而MEMS光刻技术其实是对于微纳米晶体的加工技术,也是晶振技术产业发展的关键技术,而现在我们已经有了属于自己的MEMS光刻技术领先企业,有了相关的核心技术知识产权,而我们的晶振产业也必将迎来更大的发展。

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科技创新不仅仅是体现在一两个领域,尤其是对于我们这样的一个大国,我们需要在更多的领域和行业有着我们自己在世界上的领先企业,这样我们才是一个名副其实的大国,切记不要想韩国那样,看似自己的半导体产业发达、领先世界,但是在特殊材料的上的落后,直接导致半导体产业被卡了脖子。

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一句话,无论世界如何变化,只要我们在科技技术的制高点上有了立足之地,每一个企业都进行创新,每一个人都进行创新,科技风景线小编相信,一个创新的大国必将成为世界科技强国,而这一天终究会到来的!

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